SU-8光柵的制備及其衍射性能研究

摘要： 衍射效率的大小是衡量光刻光柵性能優(yōu)劣的重要指標。使用嚴格耦合波分析(RCWA)模擬得到周期10μm和12μm的SU—8微米光柵的各級次衍射效率。采用掩模版紫外光刻技術制作曝光時間分別為27,30,33,36 s的SU—8光柵。通過顯微鏡觀察，發(fā)現(xiàn)曝光時間30 s制得的光柵結構更加清晰和平整。測量光柵樣品的衍射效率，結果顯示，0級衍射效率最大，與理論模擬結果相符。曝光時間27,3... （共4頁）